Говоря о производстве чипов, первое, что приходит на ум, это фотогравировка и технология фотогравирования. Известно, что европейская фотогравированная машина обладает ограниченной и дорогостоящей мощностью, и что промышленность всегда исследовала технологии и технологии, которые не полностью зависят от фотоаппарата EUV для производства высокотехнологичных чипов. NIL, технология нанопечати и фотогравирования, имеет большое значение на этом треке и является наиболее вероятным лидером в применении технической линии приземления. Ран в эт год согласн «финансов таймс» сводк, курирова нов литограф разработа машин canon руководител Wu Shi на янк интерв заяв, нан прижимн технолог canon литограф оборудован FPA — 1200NZ2C цел сам быстр доставл в нача эт год, эт оборудован доставк будут производ передов чип для небольш полупроводников производител откр нов пут. В то же время 5 Марта компания «milight technologies» заявила, что она будет первой в своем выступлении поддерживать технологию нано-штампования canon, тем самым еще больше снижая одноуровневые затраты на производство чипов памяти DRAM. Начиная с чипов хранения, наноштампы, которые производят микроскопические штампы, новый вид микроскопической обработки. Нанопечатные технологии, которые были добавлены фотоклеем, перенаправляли микронуклеиновую структуру шаблона в технологию, которая осталась на обрабатываемых материалах, впервые была изобретенной китайскими учеными чжоу унг в середине 1990 — х годов. Только с точки зрения принципов фотогравирования EUV, желание достичь более высокого разрешения можно было бы начать с трех уровней. Во-первых, выберете источник света с меньшим длиной волны, во-вторых, увеличите численное значение перфорированной нк через интерфейсный материал, и в-третьих, выберете более низкий технологический фактор, в котором главным образом будет сокращение длины волны источника света. Однако оптическая фотогравировка имеет предел разрешений, и каждое реализация уменьшения длины волны сопровождается техническим затруднением и умножением затрат, поэтому евс не только имеет ограниченную мощность, но и чрезвычайно дорогостоящую. В то время как процесс обработки наноотпечатка не использует видимый или ультрафиолетовый узор, он использует механические средства для передачи узоров, так что разрешение, которое может быть достигнуто, полностью не ограничено физическими ограничениями на максимально короткие волны оптической фотогравировки и не будет таким дорогостоящим, как для EUV. В недавнем выступлении компании «milight technologies» также упоминалась проблема узлов DRAM и фотогравирования с погружением в процесс, в котором «количество уровней Chop увеличивается, что означает добавление дополнительных шагов к экспозиции для извлечения dummy structures на периферии массива интенсивной памяти». В оптической системе, ограниченной только самой технологией, узоры DRAM уже трудно печатать с помощью технологии фотогравировки. «Нанопечать может быть напечатана более тонким способом, и, учитывая, что применение нанопечати обходится в одну пятую часть технологии погружения в фотогравирование», компания «mit technology technology» утверждает, что это очень хорошее решение. Разрешение наноотпечатка зависит только от размера шаблона и уже может быть выше, чем разрешение обычной фотогравировки. В то время как производство будет медленнее, шаблоны, используемые для печати, могут использоваться несколько раз, значительно снижая стоимость обработки и облегчая количественное производство. Таким образом, проект «мизуки» первым поддержал технологию canon по нанопечати, тем самым еще больше снижая одноуровневые затраты на производство чипов памяти DRAM. Чип памяти, который в настоящее время является наиболее совместимым с нанопечатью. Производитель памяти, который в большей степени ограничивает расходы на изготовление чипов, может предоставить определенный проектный запас требований к дефектам, которые могут выдержать до тех пор, пока они не влияют на производительность чипа. Карта дорог для нанопечатных устройств canon также начинается с 3D NAND, постепенно переходя к DRAM и в конечном итоге реализуя такие логические чипы, как процессоры. Сотрудничество кэша и Canon в нанопечати продолжалось в течение многих лет, и SK hellex также начали производить 3D-NAND флеш-накопитель примерно в 2025 году с тех пор, как canon ввела устройство для нанопечати. Samsung также разработала несколько программ, в Том числе нанопечатные технологии, чтобы решить проблему повышения затрат, вызванную многообразным технологическим процессом. В прошлом году томори фуджифу, глава canon, также заявил, что наноштампованные фотогравированные технологии открыли новый путь для производства высокотехнологичных чипов производителями полупроводников. Ответ на этот вопрос можно увидеть уже в этом году, поскольку наиболее быстрое начало поставки оборудования canon digital в этом году, в сочетании с технологией нанопечати, которая снижает зависимость производителя памяти от завода по производству чипов и снижает стоимость. Нанопечать снижает стоимость производства чипов, приводя новые данные в развитие продвинутых чипов в стране до того, как масао масао, глава компании FPA- 1200нзнз2c по производству наноэлектронных устройств, заявил фуджиев, что нанопресс-принтографическое полупроводниковое оборудование на одну цифру меньше, чем у EUV в ASML, и что эта машина требует только десятую часть мощности, необходимой для производства таких устройств, как EUV. FPA- 1200нз2c, судя по опубликованным данным, уже способна производить чип на узле 5nm. Ранее руководство canon заявляло, что необходимо только постоянно совершенствовать покрытие, что FPA- 1200нз2c может даже производить 2nm чипы. В дополнение к совместимости на узлах дальности, согласно сообщениям японской сети, наноотпечаток может снизить производственные расходы на 40 % по сравнению с ультрафиолетовым излучением и снизить потребление электроэнергии на 90 % по сравнению с японской сетью. В результатах предыдущих исследований, опубликованных canon, нанометрическая печать снижает расходы по сравнению с ArF-фотогравировкой в момент, когда пропускная способность составляет 80 кадров, и может быть снижена более чем на 28% по сравнению с arf-фотогравировкой, поскольку более высокая пропускная способность снижает затраты более чем на 50%. Несмотря на то, что технология нанопечати не сможет и не может полностью заменить EUV, если она будет успешно применена, она откроет новые идеи для создания продвинутой технологии обработки чипов. Известно, что в настоящее время наша полупроводниковая промышленность находится в многократной блокаде, и что доступ отечественных производителей полупроводников к современному полупроводниковому оборудованию в значительной степени ограничен, особенно в рамках продвинутой системы. Не исключается, что наноштамповое оборудование canon также ограничивает экспорт, и в японском списке экспортных контрольных устройств есть «фотогравировка для печати печати с широкими линиями ниже 45 нм». В настоящее время рынок нанопечати растет, и согласно данным TechNavio, рынок нанопечати в 2026 году обещает достичь $3,3 МЛРД, а совокупный рост составит 17,74% в год. Многие отечественные производители и научно-исследовательские организации уже находятся в процессе разработки на гоковых трассах нанопечати, таких как цинхина, сучжоу, су давиг, медекая, кристаллическая фотоэлектрика, огниво-фотоэлектрика, сучжоу, фотоэлектрический аппарат с оптическим управлением, восходящее управление фотоэлектрикой, новое измерение микрона, гоуэр и т.д., способствуют дальнейшим прорывам в производстве полупроводников внутри страны. На нан прижимн рынк отполирова год TianRen микр, уж в микр оптическ рыночн занима лидир позиц на рынк занима техническ и, кром продолжа итерац нанометр литограф печатн пресс вафл оптическ обработа расширя в област, в продолжа ставк. Расширя нанометр в полупроводников интегральн схем, планшет показыва, биочип приложен, в друг област, например в Нанометрическое оборудование бустер-страны нарушает монополию на импорт. Недавно «газовые» технологии успешно приобрели швейцарский SMO, в котором были разработаны и изготовлены нанометрические оптические технологии, которые сочетали в себе технологию изготовления и изготовления нанометрической оптики, т.е. комбинаторный дизайн и изготовление, комбинированный с целью микроскопического оптического проектирования, который сочетал бы в себе основной вариант микроскопической оптики, с точной печатью на 8 — дюймовой пластине и 8 — дюймовой кристаллической округлой в стадии производства. После многих лет исследований и маркетинговых внедрений фотошоп микронер создал несколько научно-исследовательских и полностью автоматизированных нанопечатных устройств, которые заменили nikon digital в LED digital digital industries. В настоящее время активно расширяется промышленное применение нанопечати в высокотехнологичных полупроводниковых областях. Если наноштамповое оборудование действительно будет иметь такой эффект, как и ожидалось в реальном объеме производства, то это, несомненно, станет стимулом для внутренней индустрии нанопечати и создаст новые идеи для развития передовых чипов внутри страны. В связи с быстрым развитием полупроводниковой промышленности, чипы становятся все более компактными и интегрированными, предъявляя все более высокие требования к технологиям производства чипов, а промышленность стремится к более дешевым производственным технологиям. Может ли нанопечать, как и ожидалось, произвести революцию в производстве высокотехнологичных чипов процессов, вскоре узнать об этом в области хранения.